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P04400 - SEMI P44 - マスク装置向けオープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OASIS®）の仕様 Revision:SEMI P44-0709 - Superseded 8 mm × 202

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8 mm × 202

サプライヤマーク付き裏面を持つ300 mm ウェーハの場合は時として，1回ないし数回のリクレイムサイクル後にマークを再刻印する必要がある。従って，本仕様書にはそのようなウェーハの再刻印を規定する付属書が含まれる。

509 defines has some ambiguity

SEMI M40-1109 (technical revision)

P04400 - SEMI P44 - マスク装置向けオープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OASIS®）の仕様 Revision:SEMI P44-0709 - Superseded 8 mm × 202global Micropatterning Committee2009513global Audits and Reviews Subcommittee20096www. semi. org20097CD ROM200511200811 OASISOASIS. MASK Referenced SEMI Standards SEMI P39 OASIS Open Artwork System InterchangeStandard

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