F07100 - SEMI F71 - ガス供給システムの温度サイクル試験方法 Revision:SEMI F71-1102 - Inactive 半導体製造工場では，ストッカ格納および工程間搬送に高い基本性能が必要である。この基本性能に加えて，300 mmウェーハキャリアのサイズが大きくなったことおよびその重量が増大したことで必要となった人間工学的および安全要求事項を考慮すると，工程内搬送が必要となる。製造装置へ，また製造装置からの材料搬送の完全自動化を経済的に実現するため，これらストッカ，工程間搬送および工程内搬送システムは，お互いに，そしてまた，その工場の"製造管理システム（MES）"と完全に統合する必要がある。

半導体製造工場では，ストッカ格納および工程間搬送に高い基本性能が必要である。この基本性能に加えて，300 mmウェーハキャリアのサイズが大きくなったことおよびその重量が増大したことで必要となった人間工学的および安全要求事項を考慮すると，工程内搬送が必要となる。製造装置へ，また製造装置からの材料搬送の完全自動化を経済的に実現するため，これらストッカ，工程間搬送および工程内搬送システムは，お互いに，そしてまた，その工場の"製造管理システム（MES）"と完全に統合する必要がある。

エピタキシャルシリコンウェーハは，多くの集積回路やディスクリート半導体デバイスに使用されている。共通のプロセス装置を複数のデバイス製造ラインで使用できるようにするためには，エピタキシャルウェーハの寸法を標準化することが不可欠である。

This Test Method covers the in-line

SEMI E6 — Guide for Equipment Semiconductor Installation Documentation

F07100 - SEMI F71 - ガス供給システムの温度サイクル試験方法 Revision:SEMI F71-1102 - Inactive 半導体製造工場では，ストッカ格納および工程間搬送に高い基本性能が必要である。この基本性能に加えて，300 mmウェーハキャリアのサイズが大きくなったことおよびその重量が増大したことで必要となった人間工学的および安全要求事項を考慮すると，工程内搬送が必要となる。製造装置へ，また製造装置からの材料搬送の完全自動化を経済的に実現するため，これらストッカ，工程間搬送および工程内搬送システムは，お互いに，そしてまた，その工場の"製造管理システム（MES）"と完全に統合する必要がある。NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version. SEMI SEMI Global Facilities CommitteeJapan Facilities Committee2002719Japan Regional Standards Committee20029www. semi. org200211 NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status