G01000 - SEMI G10 - プラスチックパッケージリードフレームの機械的標準測定方法 StdPbc-1119 This Specification applies to photomasks

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This Specification applies to photomasks that are principally used in fabricating flat panel displays

高性能なデジタルおよびアナログのマイクロ電子デバイスや回路を製作するには高い電気抵抗率と電子ドリフト移動度の基板が必要である。半絶縁性n型のガリウムヒ素（以降SI GaAsと記す）は，そのような用途に望ましい基板として世界中で認められてきた。

SEMI D22-0818 (technical revision)

1 — Specification for Cluster Tool Module Interface 300 mm: Mechanical Interface and Wafer Transport

G01000 - SEMI G10 - プラスチックパッケージリードフレームの機械的標準測定方法 StdPbc-1119 This Specification applies to photomasksglobal Assembly & Packaging Technical Committee201171global Audits and Reviews Subcommittee20118www. semiviews. org www. semi. org1996 : Referenced SEMI Standards None.

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