SKIN1004 - Madagascar Centella Poremizing Quick Clay Stick Mask acne للتخلص من المكياج المقاوم للماء،

للتخلص من المكياج المقاوم للماء، نظفي وجهك مسبقًا باستخدام مزيل المكياج المخصص قبل استخدام منظف زيت جيلي كومبو من كاين للحصول على نتائج مثالية

غسول رغوي للتنظيف العميق للبشرات الدهنية، المختلطة المعرضة للحبوب

Keep your skin calm and hydrated after a day in the sun with Birch Moisturising Soothing Gel

Sodium hyaluronate Crosspolymer

SKIN1004 - Madagascar Centella Poremizing Quick Clay Stick Mask acne للتخلص من المكياج المقاوم للماء،: Water, Kaolin, Dipropylene Glycol, Glycerin, Titanium Dioxide, Butylene Glycol, Sodium Stearate, Centella Asiatica Extract, 1,2 Hexanediol, Phaseolus Angularis Seed Powder, Aloe Barbadensis Leaf Extract, Cetearyl Olivate, Propanediol, Sorbitan Olivate, Dimethicone, Iron Oxides, Ethylhexylglycerin, Sodium Phytate, Bentonite, Illite, Mineral Salts, Montmorillonite, Calamine